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硅片清洗機的概念及工作原理

發(fā)布時(shí)間:2023-05-24 作者:魯超超聲 點(diǎn)擊:800次

硅片清洗機是一種專(zhuān)門(mén)用于清洗硅片或其他半導體材料的設備。它具有高效、自動(dòng)化、可靠性高等特點(diǎn),廣泛應用于半導體制造業(yè)、LED制造業(yè)等領(lǐng)域。


硅片清洗機通常采用物理清洗和化學(xué)清洗兩種方式對硅片進(jìn)行深度清潔。物理清洗主要是通過(guò)高功率超聲波波浪進(jìn)行清洗,可以有效去除硅片表面附著(zhù)的灰塵、油污和殘留物;而化學(xué)清洗則采用化學(xué)試劑,通過(guò)浸泡法或者噴淋法對硅片進(jìn)行表面處理,去除無(wú)機物和有機污漬,以達到清潔的目的。硅片清洗機還可以使用去離子水沖洗,并在清洗后使用干燥系統將其干燥,以避免二次污染。


在清洗前,硅片需要先放入載架中,然后通過(guò)計算機或者微控制器進(jìn)行選擇性操作和控制,使得硅片能夠被逐一清洗。同時(shí)硅片清洗機還配備了預處理系統和在線(xiàn)監測系統,方便操作人員實(shí)時(shí)了解清洗質(zhì)量和清洗過(guò)程中的參數情況。


總的來(lái)說(shuō),硅片清洗機是半導體制造過(guò)程中必要的一環(huán),確保半導體生產(chǎn)的質(zhì)量可靠和一致。除了提高生產(chǎn)效率和減少生產(chǎn)成本外,它還可以大幅度降低制造過(guò)程中的風(fēng)險和減輕環(huán)境污染。


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